第178章【七大半导体材料】[第2页/共4页]

硅质料实在遍及可取，平时的沙石内里的二氧化硅在颠末纯化后能够制成98%纯度的硅，高纯度的硅则需求进一步提纯变成9个n或者11个n，也就是99.999999999%，小数点前面9个9或者11个9这类级别纯度的超纯质料。

能够说，每一个环节每一种质料都要对应一家企业，当然至公司也能够把握多个环节、多种质料的研发与出产。

呼应的光刻胶成分也要产生窜改，因为像暴光波长越短对光刻胶的技术程度要求就越高，其所适应的集成电路的制程就会越先进，分歧光刻波长所利用的光刻胶成分也是分歧的。

硅晶环节主如果用到了硅片；洗濯环节会用到高纯度的特种气体或者试剂；堆积环节会用到靶材；涂胶环节会用到光刻胶；暴光环节会用到掩膜版；显影刻蚀环节会用到高纯度试剂；薄膜发展环节会用到前驱体和靶材；抛光环节会用到抛光液和抛光垫。

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溅射靶材：

eda是电子设想主动化的简称，它首要利用在芯片的设想和制造的范畴中来，是以计算机为东西，采取硬件描述的说话表达体例来对数据库计算数学、图论、图形学以及拓扑逻辑优化实际停止科学有效的融会，帮助完成超大范围集成电路芯片的设想、制造、封装、测试等全部流程的计算机软件的一个统称。

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跟着半导体制程不竭晋升，从微米级到纳米级的演进，光刻胶的波长也从紫外宽谱延长到了g线(436nm)、i线(365nm)、krf(248nm)、arf(193nm)和euv(13.5nm)的制程。

方鸿歇息了半晌，顿时又在文档里建立了一个子类——eda软件。

光刻胶：

买芯片花的钱比整年入口石油的钱都要多。

方鸿建立好文档开端一一编辑细化，把这些弄好了，到时候交给华煜，让他照着档桉打算的内容去履行。

但方鸿明显不成能华侈四年，半导体这个行业最典范的一大特性就是更新进级快，因为摩尔定律之下约莫每隔18个月，下一代产品的机能会晋升一本，本钱会降落一半。

eda首要在设想和制造范畴利用比较多，跟着芯片的制程工艺越来越庞大，eda软件的利用也变得越来越首要，它能够极大程度的进步芯片的设想效力。

封装质料包含：封装基板、引线框架、键合丝、塑封质料、陶瓷基板、芯片粘接质料和别的封装质料。

可一旦完成全财产链，前面投入统统的本钱都会连本带利收回来，只需求看看十年后仅海内对于芯片入口范围需求就晓得了。