第266章 制程路线之争 （上）[第1页/共4页]

初期光刻机土鳖的很，根基都是从电影摄像机上改革出来的，暴光光源也比较奇葩从光谱红外端到近紫外段用啥的都有，

比拟磨镜头这类比较坑爹见效很慢的耐烦活，收缩光的波长就成了晋升光刻机精度最为直接也最为优先的手腕。

普通来讲，九十年代初期，支流技术的光刻机每小时加工的晶圆数量约莫150至200片之间，而电子束直写技术加工晶圆的数量约莫为每小时三至五片，最坑爹的是跟着将来芯片的庞大程度快速进步，港基集电预估电子束直写技术的加工才气还会可骇从每小时三至五片晶圆降落为每小时加工三至五枚芯片的程度。

一样，在九十年代初，处置电子财产研发的各至公司前沿尝试室，已经发觉193nm波长以后，光源的生长俄然堕入了极大的窘境，现有的质料完整不支撑更短波长的光源有多量量利用的能够，持续收缩波长只能依托于新质料的发明或者死磕收益率不高的153nm波长的光源，更新现有电子财产的大部分设备。

得益于东洋强大的电子配套财产气力，环绕着157nm光源，东洋系电子财产链参与出来了无数的大小公司，成果都被一起打折了脊梁，在梁远偷渡之前，东洋广场和谈以后，东洋经济之以是失落长达二十年之久，林本坚博士绝对功不成没。

尼康在被ASML击败以后，曾压宝电子束直写技术搏命一搏，可惜这玩意的研发难度可谓电子行业的可控核聚变，直到梁远偷渡那一刻也没听到入坑十年的尼康搞出甚么大消息。

除了憋屈死掉的157光源以外，13.5nm EUV LLC也是梁远偷渡之前人类技术上限中最有能够投入到大范围贸易利用中的光源，这个阵营包含英特尔、AMD、摩托罗拉、美国能源部、ASML、英飞凌、Micron等。

因为芯片财产属于妙技术行业的原因，前沿和出产一线的联络非常紧密，尝试室的研发窘境很快就传导到了财产界，成果固然193nm的光源还未提高，但将来的阵营已经模糊有了迹象。

从九十年代中期开端，直到梁远偷渡之前，光刻机的光源一向保持在193nm已经靠近二十年，能够说直到或人偷渡位面那一刻，环球统统支流手机、电脑、平板、超等计算机、显卡、路由器的主芯片仍旧是193nm光源光刻出来的，193nm光源成了人类信息期间超高速生长中第一块固执稳定的基石。

NA代表着镜头的数值孔径这玩意的学术描述比较庞大，简朴的说就是NA值越大透光越多辩白率越高。

二十一世纪以后，得益于华人科学家林本坚博士的光刻胶上方加水创意，俄然获得大绝招的ASML以侵入式光刻机一举把日系光刻机厂商从云端打入灰尘，只用了不到几年时候就把持了环球70%的光刻机市场。